隨著現代納米砂磨技術的進步，隨著產品細度要求的提高，研磨介質的使用越來越多，研磨介質分離系統的進步也越來越小。 小型研磨介質的分離是砂磨機發展中困難的問題之一。 那么，有關納米砂磨機研磨介質要求的細節是什么？
1、研磨介質尺寸：砂磨機中使用的研磨介質主要是球形。 直徑越小，單位體積中加載的介質數量越多，球之間的接觸點越多，并且產品的細度隨著相同的研磨時間而增加。 研磨介質太小會導致砂光機出口分離器堵塞。 因此，砂光機分離器的結構和狹縫的寬度決定了研磨介質的尺寸。 通常，研磨介質的直徑是砂光機分離器間隙寬度的2-4倍。
2、研磨介質的重力：介質的比重越大，動能越大，研磨效率越高。 直徑為1.6-2.5mm的鋼球通常用于生產膠印油墨，而直徑為0.3-0.8mm的氧化鋯珠粒用于磨料噴墨油墨。
3、研磨介質的填充率：砂光機近似。 所需的研磨效果：水平砂光機的填充率一般為80-85％。 立式圓盤砂光機的填充率通常為75-80％。 立式條形砂光機的填充率一般為85-95％。 質量測量方法=砂磨機的有效體積×加載速率（75-85％）×介電體積密度。 簡而言之，研磨介質的填充率太高，這可能導致砂光機的溫度升得太高或者出口被堵塞。 研磨介質填充率低，研磨效率低，磨損增加，研磨時間延長。
